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 Development for high-aspect-ratio hole etching with hydrogen fluoride gas based cryogenic process 基于氟化氢气体的高纵横比孔刻蚀工艺的发展
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena 作者：Ryutaro Suda; Masahiko Yokoi; Du Zhang; Yu-Hao Tsai; Maju Tomura; et al 出版日期：2025-12-01 |
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