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标题
Optimization of Contact Resistance and DC Characteristics for AlGaN/GaN HEMTs Utilizing Sub-10 nm Nanohole Etching
相关领域
材料科学 蚀刻（微加工） 光电子学 接触电阻 纳米技术 图层（电子）
网址
https://www.mdpi.com/2079-9292/13/13/2490/pdf?version=171932...
AI链接 mdpi.com mdpi.comdoi.org
DOI
10.3390/electronics13132490 doi
其它 期刊：Electronics
作者：Hsin‐Jung Lee; Cheng-Che Lee; Hong-Ru Pan; Chieh-Hsiung Kuan
出版日期：2024-06-25
求助人
df 在 2026-01-13 07:56:06 发布自湖南，悬赏 10 积分
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