Growth and characterization of Si-doped Ga2O3 thin films by remote plasma atomic layer deposition: Toward UVC-LED application

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标题	Growth and characterization of Si-doped Ga2O3 thin films by remote plasma atomic layer deposition: Toward UVC-LED application
网址	https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2022.128252
DOI	10.1016/j.surfcoat.2022.128252 doi
其它	期刊：Surface and Coatings Technology 作者：Xiao-Ying Zhang; Yue Yang; Wei-Hang Fan; Chen Wang; Wan-Yu Wu; et al 出版日期：2022
求助人	sjh 在 2026-02-06 03:14:56 发布自广东，悬赏 10 积分
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