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Enhanced Ferroelectricity Achieved in Sub-6-nm Hf 0.5 Zr 0.5 O 2 Films by Using WO x Inserted W Electrodes |
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期刊:IEEE Electron Device Letters 作者:Boxu Yan; Jiyang Wu; Kunhao Chen; Yixuan Du; Ruiqiang Tao; et al 出版日期:2026-01-13 |
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(2025-6-4)