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 Dip-dry deposition of semiconducting aluminum oxide-hydroxide thin films 半导体氧化铝-氢氧化铝薄膜的浸渍-干法沉积
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：M. Ichimura; Cheng Baixian; Tong Li 出版日期：2023-12-11 |
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