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 Stepwise Reaction for Chemical Vapor Deposition of Stoichiometric SiC Films Using Methyltrichlorosilane and Hydrogen as Reactants 以甲基三氯氢硅和氢气为反应物的化学气相沉积化学计量SiC薄膜的分步反应
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期刊：Industrial & Engineering Chemistry Research 作者：H.-W. Liu; Guan-Hong Chou; B.W. Lee; Yu-Hsun Cheng; Jhong-Ren Huang; et al 出版日期：2024-08-28 |
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