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 Low temperature deposition of nanocrystalline silicon carbide films by plasma enhanced chemical vapor deposition and their structural and optical characterization 相关领域
材料科学
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期刊：Journal of Applied Physics 作者：T. Rajagopalan; X. Wang; Bashar Lahlouh; C. Ramkumar; P.S. Dutta; et al 出版日期：2003-10-03 |
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