| 标题 |
Selective wet etching of atomic layer deposited ferroelectric hafnium zirconium oxide and hafnium oxide thin films 相关领域
铪
材料科学
锆
蚀刻(微加工)
图层(电子)
原子层沉积
薄膜
氧化物
氧化锆
光电子学
纳米技术
冶金
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of vacuum science and technology 作者:Rushi Jani; David MacMahon; Santosh Kurinec 出版日期:2025-04-30 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)