| 标题 |
 Curvilinear masks extend lithography options for advanced node memory roadmaps 相关领域
曲线坐标
平版印刷术
节点（物理）
计算机科学
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物理
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结构工程
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| DOI |
10.1117/1.jmm.23.4.041504
doi
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期刊：Journal of micro/nanopatterning, materials, and metrology 作者：Ezequiel Vidal-Russell 出版日期：2024-09-12 |
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