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Sub-diffraction-limited multilayer coatings for the 03 numerical aperture micro-exposure tool for extreme ultraviolet lithography |
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期刊:Applied Optics 作者:Regina Soufli; Russell M. Hudyma; Eberhard Spiller; Eric M. Gullikson; Mark A. Schmidt; et al 出版日期:2007-05-31 |
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