| 标题 |
Gate Stack Analysis of Nanosheet FET for Analog and Digital Circuit Applications 用于模拟和数字电路应用的纳米片场效应晶体管的栅极堆叠分析
相关领域
跨导
材料科学
纳米片
环形振荡器
高-κ电介质
逆变器
光电子学
电介质
电容
电气工程
纳米技术
晶体管
CMOS芯片
物理
电压
工程类
电极
量子力学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:ECS Journal of Solid State Science and Technology 作者:N. Aruna Kumari; Vikas Vijayvargiya; Abhishek Upadhyay; V. Bharath Sreenivasulu; Vadthiya Narendar; et al 出版日期:2023-10-31 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)