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标题
High-κ Hf0.3Zr0.7O2 film with morphotropic phase boundary for DRAM capacitor by controlling H2O dose
控制H2O剂量的DRAM电容器高κ Hf0.3Zr 0.7 O2薄膜
相关领域
材料科学 电介质 电容器 高-κ电介质 原子层沉积 德拉姆 光电子学 等效氧化层厚度 退火（玻璃） 动态随机存取存储器 锡 薄膜 泄漏（经济） 纳米技术 电气工程 复合材料 电压 栅氧化层 冶金 晶体管 半导体存储器 经济 宏观经济学 工程类
网址
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2023.158078
DOI
10.1016/j.apsusc.2023.158078 doi
其它 期刊：Applied Surface Science
作者：Xinzhe Du; Zhen Luo; Shengchun Shen; Weiping Bai; Hui Gan; et al
出版日期：2023-07-20
求助人
追风筝的人 在 2025-08-04 18:00:46 发布，悬赏 10 积分
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