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 Improving beam current and performance in boron ion implantation via Boron Trifluoride (BF3) and Diboron Tetrafluoride (B2F4) mixture 通过三氟化硼(BF3）和四氟化二硼(B2F4）混合物改善硼离子注入的束流和性能
相关领域
材料科学
三氟化硼
硼
电流（流体）
无机化学
离子
有机化学
催化作用
化学
电气工程
工程类
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期刊：MRS Advances 作者：Ying Tang; Chee Weng Leong; Renchun Yang; Jung-Chou Hung; Paul J. Wang; et al 出版日期：2025-02-26 |
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