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Effect of slurry composition on the chemical mechanical polishing of thin diamond films
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DOI
10.1080/14686996.2017.1366815 doi
其它 期刊:Science and Technology of Advanced Materials
作者:Jessica M. Werrell; Soumen Mandal; Evan L. H. Thomas; Emmanuel Brousseau; Ryan B. Lewis; et al
出版日期:2017-09-15
求助人
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