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标题
Effect of substrate temperature and annealing on the structure and opto-electrical properties of silicon carbide thin films prepared by e-beam evaporation
衬底温度和退火对电子束蒸发碳化硅薄膜结构和光电性能的影响
相关领域
材料科学 拉曼光谱 退火(玻璃) 薄膜 电子束物理气相沉积 碳化硅 分析化学(期刊) 电阻率和电导率 基质(水族馆) 带隙 氧化物 光电子学 纳米技术 复合材料 光学 冶金 化学 海洋学 地质学 物理 电气工程 工程类 色谱法
网址
DOI
10.1016/j.vacuum.2023.111979 doi
其它 期刊:Vacuum
作者:Jia Zheng; Lei Ye; Yu Hu; Yi Huang; Jian Yu; et al
出版日期:2023-03-08
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Peter 在 2025-05-01 16:44:59 发布自浙江,悬赏 10 积分
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