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 Atomic layer deposition of high-k and metal thin films for high-performance DRAM capacitors: a brief review 高性能DRAM电容器用高k和金属薄膜的原子层沉积
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期刊：Current Applied Physics 作者：Se Eun Kim; Ju Young Sung; Yewon Yun; Byeongjun Jeon; Sang Mo Moon; et al 出版日期：2024-05-12 |
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