High performance DMD lithography based on oblique Scanning, pulse Lighting, and optical distortion calibration

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标题	High performance DMD lithography based on oblique Scanning, pulse Lighting, and optical distortion calibration 基于倾斜扫描、脉冲照明和光学畸变校准的高性能DMD光刻相关领域斜格光学失真（音乐）校准平版印刷术材料科学光电子学物理放大器哲学语言学 CMOS芯片量子力学
网址	https://doi.org/10.1016/j.optlastec.2024.112388
DOI	10.1016/j.optlastec.2024.112388 doi
其它	期刊：Optics & Laser Technology 作者：Wen-Feng Lee; Chun-Ying Wu; Yung-Chun Lee 出版日期：2024-12-30
求助人	小趴菜在 2025-05-26 08:50:07 发布自浙江，悬赏 10 积分
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