Dry etching of SiC in inductively coupled Cl2/Ar plasma

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标题	Dry etching of SiC in inductively coupled Cl2/Ar plasma
网址	http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/37/13/012
DOI	10.1088/0022-3727/37/13/012 doi
其它	期刊：Journal of Physics D: Applied Physics 作者：Liudi Jiang; N O V Plank; M A Blauw; R Cheung; E van der Drift 出版日期：2004-06-17
求助人	amao 在 2026-08-20 15:25:10 发布自江苏，悬赏 10 积分
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