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标题
A review on recent advances of chemical vapor deposition technique for monolayer transition metal dichalcogenides (MX2: Mo, W; S, Se, Te)
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DOI
10.1016/j.mssp.2022.106829 doi
其它 期刊:Materials Science in Semiconductor Processing
作者:F. Gonca Aras; Alp Yilmaz; H. Gunalp Tasdelen; Ayberk Ozden; Feridun Ay; et al
出版日期:2022-09-01
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