A transport-kinetic model development for polysilicon chemical vapor deposition in a SiHCl3–H2 system

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标题	A transport-kinetic model development for polysilicon chemical vapor deposition in a SiHCl3–H2 system
网址	https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S129007292...
DOI	10.1016/j.ijthermalsci.2024.108944 doi
其它	期刊：International Journal of Thermal Sciences 作者：Dan Zhao; Qi Zhang; Fengyang Chen; Xingping Yuan; Ni Yang; et al 出版日期：2024-02-03
求助人	Paradox 在 2026-08-28 22:33:43 发布自贵州，悬赏 10 积分
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