Thermal Design of a Schiff Base Cobalt(II) Precursor: Thermal Stability, Volatility, and Thin Film Deposition of Nanocrystalline Co 3 O 4 by Plasma‐Assisted MOCVD

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标题	Thermal Design of a Schiff Base Cobalt(II) Precursor: Thermal Stability, Volatility, and Thin Film Deposition of Nanocrystalline Co 3 O 4 by Plasma‐Assisted MOCVD
网址	http://dx.doi.org/10.1002/aoc.70601
DOI	10.1002/aoc.70601 doi
其它	期刊：Applied Organometallic Chemistry 作者：A. Roniboss; D. Malathy; G. Boopathy; Dongjin Choi; T. U. Jeevitha 出版日期：2026-05-28
求助人	王子子子赢在 2026-07-25 00:08:44 发布自甘肃，悬赏 30 积分
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