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 Spectroscopic ellipsometry of SU‐8 photoresist from 190 to 1680 nm (0.740–6.50 eV) 相关领域
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期刊：Surface and Interface Analysis 作者：George H. Major; Sean C. Chapman; Jeffrey T. Chapman; Joshua I. Wheeler; Shiladitya Chatterjee; et al 出版日期：2020-10-14 |
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