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标题
Tutorial: Hysteresis during the reactive magnetron sputtering process
警告：反应性磁共振溅镀过程中的滞后
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溅射 磁滞 过程（计算） 溅射沉积 物理气相沉积 材料科学 薄膜 沉积（地质） 工程物理 计算机科学 纳米技术 工艺工程 物理 工程类 凝聚态物理 生物 操作系统 古生物学 沉积物
网址
https://doi.org/10.1063/1.5042084
AI链接 ugent.bedoi.org
DOI
10.1063/1.5042084 doi
其它 期刊：Journal of Applied Physics
作者：Koen Strijckmans; R. Schelfhout; Diederik Depla
出版日期：2018-12-26
求助人
wgs 在 2025-12-29 14:51:10 发布自山东，悬赏 10 积分
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