Enhanced anisotropy in advanced semiconductor nanofabrication via ultralow electron temperature plasma for cryogenic etching

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标题	Enhanced anisotropy in advanced semiconductor nanofabrication via ultralow electron temperature plasma for cryogenic etching
网址	https://doi.org/10.1016/j.mssp.2025.110156
DOI	10.1016/j.mssp.2025.110156 doi
其它	期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Min-Seok Kim; Jong Ha Ahn; Deok Hwan Kim; Seok Hyeon Ha; Chin-Wook Chung 出版日期：2026
求助人	StevenZhao 在 2026-01-29 16:51:24 发布自湖北，悬赏 10 积分
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