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标题
Annealing Effect on Mechanical Stress in Reactive Ion-Beam Sputter-Deposited Silicon Nitride Films
相关领域
材料科学 溅射 退火(玻璃) 氮化硅 椭圆偏振法 离子束 折射率 薄膜 氮化物 复合材料 溅射沉积 光电子学 离子 图层(电子) 纳米技术 化学 有机化学
网址
DOI
10.1143/jjap.30.1469 doi
其它 期刊:Japanese Journal of Applied Physics
作者:A. Fourrier; Alain Bosseboeuf; Daniel Bouchier Daniel Bouchier; G. Gautherin
出版日期:1991-07-01
求助人
欻欻 在 2026-01-16 11:25:26 发布自浙江,悬赏 10 积分
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