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标题
Oxide Reliability of Gate Biased Trench Si-IGBTs Irradiated with Protons and Neutrons
质子和中子辐照栅极偏置沟槽Si-IGBT的氧化物可靠性
相关领域
沟槽 可靠性（半导体） 材料科学 辐照 中子 光电子学 氧化物 栅氧化层 硅 核工程 放射化学 电气工程 物理 核物理学 化学 纳米技术 工程类 冶金 晶体管 电压 功率（物理） 量子力学 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1109/ispsd59661.2024.10579671
AI链接 ac.ukdoi.org
DOI
10.1109/ispsd59661.2024.10579671 doi
其它 期刊：
作者：Lucas Barroso Spejo; Silvan Rehm; Vladimír Novák; Benedict Ammann; Philippe Würsch; et al
出版日期：2024-06-02
求助人
wackykao 在 2025-12-24 18:56:08 发布自北京，悬赏 10 积分
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