| 标题 |
A dry development process for vertically tailored hybrid multilayer EUV photoresist: chemical vapor development (CVD) |
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| DOI |
10.1117/12.3034596
doi
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| 其它 |
期刊: 作者:Ji-Hoo Seok; Jiwon Kim; Hyeonseok Ji; Jaehyuk Lee; Kwang-Sub Yoon; et al 出版日期:2024-11-12 |
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(2025-6-4)