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![]() 偏压对(TiVCrNbSiTaBY)N高熵合金氮化物涂层组织和性能的影响
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期刊:Vacuum 作者:Xiangyu Zhang; Vasiliy Pelenovich; Yan Liu; Xianwen Ke; Jun Zhang; et al 出版日期:2021-10-28 |
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