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标题
Development methods for metal oxide photoresists: a fundamental investigation using lithography simulations
网址
https://doi.org/10.1117/12.3090800
DOI
10.1117/12.3090800 doi
其它 期刊：Advances in Patterning Materials and Processes XLIII
作者：Craig D. Needham; Ulrich Welling; Amrit Narasimhan; Joren Wouters; Peter De Schepper; et al
出版日期：2026
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皮三问 在 2026-04-16 16:10:44 发布自上海，悬赏 20 积分
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