Improving SiO2 to SiNx etch selectivity during atomic layer etching with multiple selective organic pre-functionalization steps

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标题	Improving SiO2 to SiNx etch selectivity during atomic layer etching with multiple selective organic pre-functionalization steps
网址	https://doi.org/10.1116/6.0003447
DOI	10.1116/6.0003447 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Xue Wang; Ryan J. Gasvoda; Eric A. Hudson; Prabhat Kumar; Sumit Agarwal 出版日期：2024-04-26
求助人	落后的书蕾在 2026-08-28 10:58:14 发布自广东，悬赏 10 积分
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