| 标题 |
 Study on Technological Conditions and Properties of Si-rich Silicon Nitride Thin Films Prepared with PECVD 相关领域
材料科学
硅烷
等离子体增强化学气相沉积
薄膜
氮化硅
无定形固体
化学气相沉积
纳米晶硅
氮化物
傅里叶变换红外光谱
非晶硅
结晶
硅
分析化学（期刊）
光电子学
化学工程
晶体硅
复合材料
纳米技术
图层（电子）
结晶学
化学
有机化学
工程类
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期刊： 作者：Zhang Long-lon 出版日期：2014-01-01 |
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