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标题
Comprehensive Design Guidelines of Gate Stack for QLC and Highly Reliable Ferroelectric VNAND
QLC和高可靠性铁电VNAND栅极堆叠的综合设计指南
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网址
https://doi.org/10.1109/iedm45741.2023.10413820
DOI
10.1109/iedm45741.2023.10413820 doi
其它 期刊：
作者：Suhwan Lim; Taeyoung Kim; Ilho Myeong; Sanghyun Park; Suseong Noh; et al
出版日期：2023-12-09
求助人
LL 在 2025-12-15 20:35:34 发布自湖北，悬赏 10 积分
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