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标题
A Unified Machine Learning Through Focus Resist 3-D Structure Model
基于聚焦抗蚀剂三维结构模型的统一机器学习
相关领域
抵抗 光学(聚焦) 平版印刷术 计算机科学 进程窗口 光学接近校正 人工智能 过程(计算) 光学 材料科学 纳米技术 物理 图层(电子) 操作系统
网址
DOI
10.1109/tsm.2023.3340110 doi
其它 期刊:IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing
作者:Mingyang Xia; Yan Yan; Chen Li; Xuelong Shi
出版日期:2023-12-06
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无私的青槐 在 2025-12-31 15:41:16 发布自贵州,悬赏 10 积分
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