| 标题 |
Hard and tough sub-stoichiometric B1 Ta-Mo-Nx films by regulating N content 相关领域
材料科学
化学计量学
微观结构
断裂韧性
X射线光电子能谱
缩进
溅射
溅射沉积
氮化物
三元运算
复合材料
分析化学(期刊)
韧性
薄膜
冶金
结晶学
化学工程
纳米技术
化学
图层(电子)
物理化学
计算机科学
工程类
程序设计语言
色谱法
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of Alloys and Compounds 作者:Hang Li; Jianliang Li; Jian Kong; Jiewen Huang; Qiujie Wu; et al 出版日期:2022-11-11 |
| 求助人 | |
| 下载 | 暂无链接,等待应助者上传 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
对不起,您需要登录才可以上传文件。
进入登录页面
科研通AI2.0
机器人 未找到该文献,机器人已退出,请等待人工下载
22:53:51 未找到该文献,机器人已退出,请等待人工下载22:53:47 科研通AI机器人(日本 东京)收到请求,开始寻找文献22:53:47 已向机器人发送请求
猫咪哪里有什么坏心思
Lv1 求助人 发起了本次求助