Etchant‐Free Dry‐Developable Extreme Ultraviolet Photoresist Materials Utilizing N‐Heterocyclic Carbene–Metal Complexes

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标题	Etchant‐Free Dry‐Developable Extreme Ultraviolet Photoresist Materials Utilizing N‐Heterocyclic Carbene–Metal Complexes 相关领域极紫外光刻光刻胶 X射线光电子能谱材料科学极端紫外线平版印刷术纳米技术化学工程光化学化学光电子学光学激光器物理工程类图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1002/smll.202407966
DOI	10.1002/smll.202407966 doi
其它	期刊：Small 作者：Dowon Kim; Jinhwan Byeon; Joung Real Ahn; Sang-Jin Kim; In‐Uk Moon; et al 出版日期：2025-01-23
求助人	绵绵球在 2026-01-05 09:46:23 发布自福建，悬赏 10 积分
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