| 标题 |
Kinetics of laser-induced oxidation of silicon near room temperature 近室温激光诱导硅氧化动力学
相关领域
硅
热氧化
氧气
活化能
离子
扩散
动力学
分析化学(期刊)
椭圆偏振法
化学
分子
渗透(战争)
穿透深度
大气温度范围
薄膜
化学物理
材料科学
物理化学
纳米技术
热力学
光学
有机化学
物理
量子力学
运筹学
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Applied Physics A 作者:А. В. Осипов; P. Patzner; Peter Hess 出版日期:2005-11-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|