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标题
Effect of pH on Hard Disk Substrate Polishing in Glycine-Hydrogen Peroxide System Abrasive-Free Slurry
pH值对甘氨酸-过氧化氢体系无磨料浆料中硬盘基片抛光的影响
相关领域
泥浆 过氧化氢 俄歇电子能谱 磨料 材料科学 介电谱 基质(水族馆) 抛光 水溶液 无机化学 化学工程 化学 电化学 冶金 复合材料 有机化学 电极 核物理学 物理化学 工程类 地质学 物理 海洋学
网址
DOI
10.4028/www.scientific.net/kem.562-565.691 doi
其它 期刊:Key engineering materials
作者:Si Si Chen; Hong Lei; Ru Ling Chen
出版日期:2013-07-01
求助人
佳足 在 2024-10-30 11:23:05 发布自天津,悬赏 30 积分
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