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 Bimetallic-catalyst metal-assisted chemical etching for tailored formation of high-aspect-ratio III−V compound semiconductor submicron pillar arrays 用于定制形成高纵横比III-V化合物半导体亚微米柱阵列的双金属催化剂金属辅助化学蚀刻
相关领域
双金属片
材料科学
纳米技术
微电子
蚀刻（微加工）
制作
反应离子刻蚀
各向同性腐蚀
纳米结构
半导体
干法蚀刻
催化作用
纳米光刻
图层（电子）
金属
光电子学
化学
冶金
病理
医学
生物化学
替代医学
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| 其它 |
期刊： 作者：Aadit Sharma; Troy A. Hutchins-Delgado; Sami A. Nazib; Erum Jamil; John Nogan; et al 出版日期：2024-03-11 |
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