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 In Situ Monitoring of Etching Characteristic and Surface Reactions in Atomic Layer Etching of SiN Using Cyclic CF4/H2 and H2 Plasmas 相关领域
蚀刻（微加工）
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期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Shih‐Nan Hsiao; Makoto Sekine; Masaru Hori 出版日期：2023-07-13 |
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