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 Contact Resistance Optimization in MoS2 Field-Effect Transistors through Reverse Sputtering-Induced Structural Modifications 相关领域
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期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Yuan Fa; Agata Piacentini; Bart Macco; Holger Kalisch; Michael Heuken; et al 出版日期：2025-03-11 |
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