| 标题 |
 Dry Etching of SiO2Thin Films with Perfluoropropenoxide–O2and Perfluoropropene–O2Plasmas 相关领域
蚀刻（微加工）
干法蚀刻
等离子体
材料科学
反应离子刻蚀
等离子体刻蚀
硅
氧气
分析化学（期刊）
污染
选择性
环境化学
化学
光电子学
纳米技术
催化作用
图层（电子）
物理
有机化学
量子力学
生态学
生物化学
生物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Francesco Fracassi; Riccardo d’Agostino; Antonella Fornelli; Tatsuru Shirafuji 出版日期：2002-10-15 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Criminology34
null
秋风
Nole
Ali
Kao
GingerF
斯文的白玉
Lo
无极微光
OK
罗Eason
cdercder
Freya1528
CRUSADER
学术文献互助
嘉心糖
今夕何夕
Rita
12Nightz
皖公网安备34019202002308
