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标题
Dry Etching of SiO2Thin Films with Perfluoropropenoxide–O2and Perfluoropropene–O2Plasmas
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网址
https://doi.org/10.1143/jjap.41.6287
DOI
10.1143/jjap.41.6287 doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Francesco Fracassi; Riccardo d’Agostino; Antonella Fornelli; Tatsuru Shirafuji
出版日期：2002-10-15
求助人
Litoivda 在 2025-10-31 14:07:06 发布，悬赏 10 积分
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