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标题
Generation of multi-level microstructures using a wavelength-selective photoresist and mask-less grayscale lithography
使用波长选择性光刻胶和无掩模灰度光刻产生多级微结构
相关领域
光刻胶 材料科学 灰度 平版印刷术 抵抗 光学 光刻 光电子学 微流控 纳米技术 物理 像素 图层(电子)
网址
DOI
10.1117/12.2544658 doi
其它 期刊:
作者:Andrea Kick; Dorothea Helmer; Frederik Kotz; Bastian E. Rapp
出版日期:2020-02-21
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奥观海 在 2023-09-21 17:58:16 发布,悬赏 10 积分
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