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 Hydrogen diffusion behavior in CH2P-molecular-ion-implanted silicon wafers for CMOS image sensors CMOS图像传感器用CH2P分子离子注入硅片中氢的扩散行为
相关领域
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期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Ryosuke Okuyama; Takeshi Kadono; Ayumi Onaka‐Masada; Akihiro Suzuki; Kôji Kobayashi; et al 出版日期：2021-09-24 |
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