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  Tunable physical properties of Al-doped ZnO thin films by O2 and Ar plasma treatments O2和Ar等离子体处理Al掺杂ZnO薄膜的可调物理性质
相关领域
材料科学
薄膜
兴奋剂
氧化铟锡
等离子体
带隙
薄板电阻
表面粗糙度
铟
氧化物
工作职能
光电子学
化学工程
纳米技术
图层（电子）
复合材料
冶金
物理
工程类
量子力学
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| 网址 | |
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| 其它 |
期刊：Materials Research Express 作者：Young-Hee Joo; Doo‐Seung Um; Chang-Il Kim 出版日期：2021-12-01 |
| 求助人 |
无情修杰
在
2025-08-26 02:25:21 发布，悬赏 10 积分
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