| 标题 |
Analysis of Sn Behavior During Ni/GeSn Solid-State Reaction by Correlated X-ray Diffraction, Atomic Force Microscopy, and Ex-situ/In-situ Transmission Electron Microscopy 相关领域
透射电子显微镜
材料科学
原位
衍射
分析化学(期刊)
原子扩散
相(物质)
显微镜
光谱学
结晶学
电子衍射
纳米技术
化学
光学
量子力学
物理
色谱法
有机化学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:ECS Transactions 作者:A. Quintero; Patrice Gergaud; Jean‐Michel Hartmann; V. Delaye; Nicolas Bernier; et al 出版日期:2020-09-08 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|