| 标题 |
 Gas-phase reactions of WF6with SiH4for deposition of WSinfilms free from powder formation WF6与SiH4气相反应沉积无粉末形成的WSIN薄膜
相关领域
硅化物
沉积（地质）
反应性（心理学）
氟
化学
相（物质）
气相
反应机理
Atom（片上系统）
分子
分析化学（期刊）
硅
物理化学
有机化学
病理
嵌入式系统
古生物学
催化作用
替代医学
生物
医学
计算机科学
沉积物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Naoya Okada; Noriyuki Uchida; Shinichi Ogawa; Toshihiko Kanayama 出版日期：2019-03-14 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
看不了一点文献
GingerF
5_羟色胺
OK
DKJ
Jason
密码是手机号
Copyright
无极微光
lizishu
Aling
落寞灵萱
loii
羞涩的如豹
Guoyut
甜甜的映寒
何同学
Rita
cdercder
典雅亚男
皖公网安备34019202002308
