Source-mask co-optimization: optimize design for imaging and impact of source complexity on lithography performance

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标题	Source-mask co-optimization: optimize design for imaging and impact of source complexity on lithography performance
网址	http://dx.doi.org/10.1117/12.838701
DOI	10.1117/12.838701 doi
其它	期刊：SPIE Proceedings 作者：Stephen Hsu; Zhipan Li; Luoqi Chen; Keith Gronlund; Hua-yu Liu; et al 出版日期：2009-12-03
求助人	善良晓蓝在 2026-08-17 19:41:59 发布自上海，悬赏 20 积分
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