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Research on High-Threshold-Voltage InAlN/GaN HEMTs with p-GaN Caps and Trench Gates with InGaN Buried Layers |
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期刊:Journal of Electronic Materials 作者:Yi-Fei Chen; Li-E Cai; Kai Niu; Zhi-Yu Ma; Zhi-Chao Chen; et al 出版日期:2025-06-07 |
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(2025-6-4)