Helium assisted plasma etching of indium phosphide ridge waveguides at mild condition

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标题	Helium assisted plasma etching of indium phosphide ridge waveguides at mild condition
网址	https://pubs.aip.org/avs/jvb/article-pdf/doi/10.1116/6.00048...
DOI	10.1116/6.0004862 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B 作者：Yue Zhang; Yuanwei Lin 出版日期：2025-11-04
求助人	刘建利在 2026-04-28 15:58:39 发布自山东，悬赏 10 积分
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