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  Application of Self-aligned Quadruple Patterning to Fabrication of Nanoimprint Mold with Sub-12-nm Half-pitch 相关领域
材料科学
纳米压印光刻
蚀刻（微加工）
抵抗
制作
电子束光刻
图层（电子）
纳米光刻
原子层沉积
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期刊：Journal of Photopolymer Science and Technology 作者：Kenta Suzuki; Tetsuya Ueda; Hiroshi Hiroshima; Yasuhiko Hayashi 出版日期：2024-06-25 |
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