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标题
Application of Self-aligned Quadruple Patterning to Fabrication of Nanoimprint Mold with Sub-12-nm Half-pitch
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材料科学 纳米压印光刻 蚀刻(微加工) 抵抗 制作 电子束光刻 图层(电子) 纳米光刻 原子层沉积 干法蚀刻 平版印刷术 纳米技术 模具 栅栏 心轴 光电子学 下一代光刻 复合材料 替代医学 病理 医学
网址
AI链接 go.jpdoi.org
DOI
10.2494/photopolymer.37.475 doi
其它 期刊:Journal of Photopolymer Science and Technology
作者:Kenta Suzuki; Tetsuya Ueda; Hiroshi Hiroshima; Yasuhiko Hayashi
出版日期:2024-06-25
求助人
王鑫 在 2026-05-06 10:14:06 发布自江苏,悬赏 10 积分
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  • 18天前,求助关闭

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  • 18天前

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